湖南萱洋偉業(yè)科技有限公司

• 在 0.2-30kV （HV30）、0.2-50kV （HV50） 或 20-100kV （HV100） 之間運行。
• 兼容超高真空 （UHV）。
• 工作壓力：< 2 × 10?? mbar。

• 掃描電子顯微鏡 （SEM） 作為 FEG 模塊。
• 電子束光刻。
• TEM 應(yīng)用 （HV100）。
• 俄歇電子能譜。
• 其他基于 UHV 的電子光學(xué)應(yīng)用。
• 可通過激光注射為時間分辨應(yīng)用進行配置。

        HV30 是一種使用 M20 微型模塊陰極的 einzel 型鏡頭。它能夠提供聚焦的電子束，隨后可以通過磁柱或靜電柱聚焦，以適應(yīng)給定的應(yīng)用。

• 陰極可更換，而不會干擾預(yù)對準，這是 YPS 設(shè)計獨有的新穎特性和功能。
• 預(yù)對準的 einzel 透鏡，具有提取器聚焦電極和接地電極。
• 高精度、靜電設(shè)計的 FEG 包含五個電極：（i） 抑制器、（ii） 陰極、（iii） 提取器、（iv） 透鏡和 （v） 陽極。
• 設(shè)計用于 YPS-M20 熱場發(fā)射器“TFE”。
• 電子束可以聚焦到距接地電極的給定工作距離。
• 所有 FEG 都可以在密封的槍室（密封系統(tǒng)）中提供。

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